合金ICP光譜儀還有許多根據(jù)用戶(hù)的建議和實(shí)際經(jīng)驗(yàn)而改進(jìn)的地方。比如耐化學(xué)腐蝕的表面和便于維修更換部件的側(cè)面開(kāi)門(mén)等。該儀器配備*CCD光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)*可靠的RF發(fā)生器，簡(jiǎn)化了安裝和培訓(xùn)要求。按照EPA標(biāo)準(zhǔn)預(yù)先設(shè)置好分析方法，適合分析：金屬、水/廢水、土壤、泥污、濾渣等。儀器設(shè)備緊湊，占用面積小，樣品流程非常短，因此大大縮短了分析時(shí)間和沖洗時(shí)間。

　　在ICP光源中，光譜干擾是十分嚴(yán)重的干擾，光譜干擾主要分為兩類(lèi)：

　　一類(lèi)是譜線(xiàn)重疊干擾，是由于光譜儀色散率和分辨率的不足，使某些共存元素的譜線(xiàn)重疊在分析上的干擾；

　　另一類(lèi)是背景干擾，這類(lèi)干擾與基體成分及ICP光源本身所發(fā)射的強(qiáng)烈的雜散光的影響有關(guān)。

　　對(duì)于譜線(xiàn)重疊干擾，采用高分辨率的分光系統(tǒng)，決不是意味著可以*消除這類(lèi)光譜干擾，只能認(rèn)為當(dāng)光譜干擾產(chǎn)生時(shí)，它們可以減輕至小強(qiáng)度。因此，常用的方法是選擇另外一條干擾少的譜線(xiàn)作為分析線(xiàn)，或應(yīng)用干擾因子校正法(IEC)予以校正。對(duì)于背景干擾，有效辦法是利用現(xiàn)代儀器所具備的背景校正技術(shù)給予扣除。